經(jīng)優(yōu)化的x軸定標(biāo)，穩(wěn)定性更佳

MATRIX-F II 過程光譜儀

如今，光譜分析已成為一項(xiàng)非常重要的在線過程監(jiān)測(cè)與優(yōu)化技術(shù)。由光纖連接的探頭可以直接監(jiān)控生產(chǎn)過程，并且不存在時(shí)間延遲。

MATRIX-F II 傅立葉變換光譜儀可以在過程反應(yīng)器和管道中直接進(jìn)行測(cè)量，讓您更好地理解和控制生產(chǎn)過程。其**性技術(shù)提供了一致的高質(zhì)量結(jié)果、縮短了停機(jī)時(shí)間，并實(shí)現(xiàn)了方法的直接轉(zhuǎn)移。布魯克生產(chǎn)的所有過程光譜儀都具有堅(jiān)固性、長(zhǎng)期穩(wěn)定性和維護(hù)成本低的特點(diǎn)。

數(shù)千臺(tái)在線光譜儀已經(jīng)安裝和使用于化工、石化、聚合物和制藥生產(chǎn)過程以及食品和飼料制造領(lǐng)域，是我們過程控制豐富經(jīng)驗(yàn)的有力證明。

傅立葉近紅外（FT-NIR）過程監(jiān)測(cè)

如今，許多制造商不僅致力于生產(chǎn)具有*佳品質(zhì)的成品，還希望通過將實(shí)驗(yàn)室分析技術(shù)應(yīng)用于工廠，來改進(jìn)生產(chǎn)效率。通過加大對(duì)生產(chǎn)過程的監(jiān)控，制造商將能優(yōu)化物料利用，減少甚至消除不合格產(chǎn)品的產(chǎn)生，從而*終避免造成再加工和廢棄處理成本。

傅立葉近紅外分析技術(shù)的實(shí)時(shí)在線監(jiān)控的優(yōu)勢(shì)已眾所周知。然而，傳統(tǒng)的光譜儀只能安裝在靠近監(jiān)控生產(chǎn)線的地方，這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環(huán)境中。而且，測(cè)量點(diǎn)有時(shí)很難接近，甚至是防爆等危險(xiǎn)區(qū)。

通過利用光纖技術(shù)，MATRIX-F II 主機(jī)可與實(shí)測(cè)點(diǎn)相距數(shù)百米，將探頭直接安裝在采樣點(diǎn)，大大簡(jiǎn)化了工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試的難度。此外，當(dāng)環(huán)境特別惡劣時(shí)可將主機(jī)置于帶空調(diào)的工業(yè)小屋內(nèi)，這樣可以消除極端溫度影響，進(jìn)一步優(yōu)化光譜儀的性能，還可以保護(hù) MATRIX-F II，防止其遭受過度污垢和灰塵。

常見的過程控制包括監(jiān)測(cè)化學(xué)反應(yīng)以及中間產(chǎn)品和成品的質(zhì)量：

直接監(jiān)測(cè)生產(chǎn)反應(yīng)器和管道中樣品

遠(yuǎn)距離測(cè)量

加深過程理解和控制

用于測(cè)定不同行業(yè)混合過程均勻性、化學(xué)品組分濃度和聚合過程狀態(tài)的理想工具

Direct process measurements with FT-NIR Spectroscopy

效用*大化

MATRIX-F II 是目前**的只用一臺(tái)儀器就可對(duì)物料進(jìn)行接觸式測(cè)量和非接觸式測(cè)量的光譜儀。有不同的測(cè)量附件可供使用：

光纖探頭：可根據(jù)需要配置漫反射、透反射或不同光程長(zhǎng)度的液體透射探頭，以及流通池或其他試驗(yàn)性裝置。還可根據(jù)物料性質(zhì)選擇配置不同材質(zhì)的探頭，如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷

非接觸式測(cè)量的發(fā)射探頭：非接觸式發(fā)射探頭內(nèi)置鎢燈光源，可以直接照射樣本，并將收集的散射漫反射光通過光纖傳輸至光譜儀。通過這種方式，可以進(jìn)行遠(yuǎn)程非接觸式測(cè)量，實(shí)現(xiàn)一系列全新應(yīng)用。它可以提供多達(dá)六個(gè)流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F II duple。

MATRIX-F II:

MATRIX-F II: 經(jīng)典 FT-NIR 光譜儀，通過光纖連接流通池或浸入式探頭，用于固體或液體分析。

MATRIX-F II emission:

MATRIX-F II emission: 特別版 MATRIX-F II 光譜儀，通過光纖連接非接觸式發(fā)射探頭，僅用于非接觸式測(cè)量。

MATRIX-F II duplex:

MATRIX-F II duplex：經(jīng)典 MATRIX- F II 的擴(kuò)展型號(hào)，可同時(shí)連接常規(guī)光纖探頭和非接觸式發(fā)射探頭。

MATRIX-F exproof:

MATRIX-F 通過ATEX 防爆認(rèn)證，并符合以下標(biāo)準(zhǔn)：

• II 2G Ex px II T6 Gb

• II (1) G [Ex op is T4 Ga] II C

先進(jìn)技術(shù)

MATRIX-F 是一款專用 FT-NIR過程光譜儀，經(jīng)得任何考驗(yàn)。

儀器使用*先進(jìn)的光譜技術(shù)，在緊湊的模塊系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)出色的靈敏性和穩(wěn)定性。其**設(shè)計(jì)提供始終如一的高質(zhì)量檢測(cè)結(jié)果，并節(jié)約停機(jī)時(shí)間，模型直接傳遞，在新應(yīng)用中并不會(huì)降低靈敏度和精度。完全支持工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)通信協(xié)議，確保輕松集成。

MATRIX-F 可安裝在實(shí)驗(yàn)室作為一臺(tái)獨(dú)立式系統(tǒng)，開發(fā)合適的方法，并可直接轉(zhuǎn)到您的過程應(yīng)用分析。使用NEMA 4/IP66（防濺型），MATRIX-F不僅可成為獨(dú)立系統(tǒng)，還可放入標(biāo)準(zhǔn)的 19 英寸工業(yè)機(jī)柜中。MATRIX-F可裝配6通道光纖擴(kuò)展模塊。

• 提供快速準(zhǔn)確的在線結(jié)果

• 多組分同時(shí)分析

• 綠色無損分析

• 內(nèi)置式6通道多路器

• 模型直接傳遞

• 堅(jiān)固的設(shè)計(jì)

• 以太網(wǎng)連接和支持工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)通信協(xié)議

輕松維護(hù)

MATRIX-F 的設(shè)計(jì)確保了可靠性且易于維護(hù)。預(yù)對(duì)準(zhǔn)安裝座上的消耗部件是用戶可更換的，無需重新對(duì)準(zhǔn)光學(xué)元件。儀器可以快速維修，以*大限度地減少對(duì)制造過程的干擾。

儀器性能驗(yàn)證

MATRIX-F 光譜儀內(nèi)部配備有標(biāo)準(zhǔn)材料和濾光片的自動(dòng)濾光輪，由 OPUS 軟件的 OVP（Optics Validation Program）程序控制，自動(dòng)按照相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)儀器進(jìn)行性能檢測(cè)，并對(duì)儀器性能指標(biāo)進(jìn)行評(píng)估，以確定儀器運(yùn)行狀態(tài)是否正常、規(guī)范。

連接性

CMET軟件提供工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)接口(OPC)可以集成到各種過程控制環(huán)境中，支持各種標(biāo)準(zhǔn)通信協(xié)議，包括4-20mA、Modbus、Profibus DP 和OPC。